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2024-08
催化剂用硅溶胶
硅溶胶具有大比表面积和高表面活性,同时还具有良好的粘结性、耐温性、凝胶性、表面电荷可调性等特点,可作为一种性能优良的催化剂载体材料或者催化剂助剂材料。浙江新创纳生产的催化剂用硅溶胶具有产品纯度高,稳定性好,寿命长等特点。
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2024-08
HPCS系列电子级高纯硅溶胶
新创纳公司生产的HPCS电子级硅溶胶可用于各种衬底抛光液、IC抛光液、催化剂以及其他需要金属含量低的应用领域。
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2021-08
CMP是半导体抛光材料和芯片平坦化的必经之路
CMP全称为Chemical Mechanical Polishing,化学机械抛光,是半导体晶片表面加工的关键技术之一。…
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2021-08
集成电路抛光液废液处理在半导体产业化学机械研磨制程中面临重要考验
「上海新安纳」浙江新创纳电子科技有限公司研发生产的集成电路抛光液,经历了多代升级,目前已经用于多家半导体公司。…
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2021-08
CMP抛光液为什么越来越受到欢迎
「上海新安纳」浙江新创纳是一家专注于研发高端硅溶胶、CMP抛光液及其生产和销售公司,在CMP抛光液和抛光技术方面已申请并获得发明专利两百余项,广泛应用于半导体、抛光等行业,年产能一万多吨。…
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